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主营产品
反应离子刻蚀机( RIE )、管式真空炉、磁控溅射镀膜机、扩散氧化炉(生产型)、低压化学气相沉积设备( LPCVD)、立式炉、离子束刻蚀机、TC2000EXW半导体制冷恒温槽、双管立式炉、扩散氧化炉(科研型)等产品。
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